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产物介绍
厂滨惭颁翱思美高超净环 MP 离子发生器，具有广泛可调性的调制脉冲技术 & ISO 14644-12 离子化
厂滨惭颁翱思美高超净环 MP 离子发生器
Simco-Ion, 技术集团的 AeroBar 5635 调制脉冲离子化棒专为消除半导体和其他超净制造过程中的静电荷而设计，要求快速放电时间、低摆动电压和精确平衡。5635 型号利用 MP 技术，将高频正弦波与调制脉冲 (MP) 结合，实现高离子输出和传输。这项突破性技术使 AeroBar 可以在离晶圆 150 毫米以内安装。MP 技术与超净硅发射点和精密调整相结合，提供 ISO 14644-12 离子化（0.01 µm 颗粒或纳米颗粒）和 ISO 14644 1 级（0.1 µm 颗粒）的清洁度，对于更小的技术节点至关重要。
扩展ISO 1级（10纳米）颗粒清洁度
调制脉冲技术
出色的横向均匀性
低场电压
气辅助能力
可选软件，具有易于使用的界面和广泛的可调性
报警输出信号
厂滨惭颁翱思美高超净环 MP 离子发生器
| 电压 | 输入：24 VDC ±10% 电源输入 RJ-45；0.7A（最大） 输出：13.5 kV 峰峰值（最大），可调 |
|---|---|
| 排放 | 在无空气辅助的情况下，15秒内&辫濒耻蝉尘苍;1000-100痴（典型值），在发射器中心点下方24英寸处，痴辫-辫摆动为80 |
| 余额 | &濒迟;在受控环境中于18英寸距离测量为&辫濒耻蝉尘苍;35伏 |
| 离子发射 | 调制脉冲 (MP) 技术 |
| 发射器 | ISO 14644-1 1类单晶硅 |
| 洁净室等级 | ISO 14644-1 (0.1 微米颗粒) 和扩展 ISO 1 级清洁度 (10 纳米颗粒或纳米颗粒)，使用 45-50% 输出电压设置和带有单晶硅发射器的 OpenJet 喷嘴 |
| 维度 | 3.1英寸高 x 1.3英寸宽 x 17.7 / 23.6 / 33.5 / 39.3 / 45.3 / 51.2 / 57.1 / 63.0 / 69.0 / 74.8 / 80.7 / 86.6 / 92.5英寸长 (7.8 x 3.4 x 45 / 60 / 85 / 100 / 115 / 130 / 145 / 160 / 175 / 190 / 205 / 220 / 235 厘米) |
前端半导体制造
AeroBar 5635专为半导体晶圆处理以及更小几何尺寸下的严格清洁度和性能要求而设计。它提供ISO 14644-12离子化（0.01 µm颗粒或纳米颗粒）和ISO 14644 Class 1（0.1 µm颗粒）的清洁度。
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